Spin Coater

Acasa >> Produse >>Aparatura Stiintifica

Spin Coater

 

SPIN150i ≤ Ø150MM

Spin150i
Echipamentele sunt de inalta calitate si sunt concepute special pentru zona de cercetare si microproductie in domeniile precum: MEMS, industria semiconductoare, PV, Microfluide, etc. Sistemul este adaptat pentru toate procesele de tip spin coating: curatare, clatire / uscare, developare, acoperire si gravare.

Spin coater-ul SPIN150i este un sistem cu un cost redus, potrivit pentru prelucrarea fragmentelor de 5 mm pana la Ø150 (6 “) sau 4″x4”. Panoul de comanda este detașabil. Softul permite programe de stocare nelimitate pentru rețete cu pași multipli (rotații CW & CCW pentru aplicațiile de acoperire prin centrifugare).

Modele disponibile: Table Top, Integrator, NPP si PTFE
Modelul Table Top utilizat cu injectia manuala, sau opțional automata, a substantelor in camera de procesare. Este fabricat din polipropilena (NPP), fara sudura, opțional din teflon (PTFE). Sistemul include un suport de vacuum și un adaptor pentru fragmente.
Varianta Integrator poate fi usor adaptata la sistemul dumneavoastra de tip “wetbench”. Disponibil in doua variante: polipropilena (NPP) sau teflon PTFE. Include un suport de vacuum și un adaptor pentru fragmente.

Specificatii:
Număr disponibil de programe nelimitat *
Pași per program nelimitat *
Viteza de rotatie * 1 – 12.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec **
Timp rotatie nelimitat *, ± 0,1 pași secunde
Ieșiri programabile libere 3 relee, capacitate nominală de comutare 0,5A / 125VAC – 0,3A / 60DC

Date despre sistem
Material carcasa Polipropilenă naturală (NPP) ***
Material camera de procesare Polipropilenă naturală (NPP) ***
Interfață Ecran tactil detașabil, de dimensiuni mari, utilizabil si cu manusi, rezistent la substanțe chimice, IP52,
Conexiune externă 1 Port USB în controler
Diametru substrat maxim 160mm rotund sau 4’’x 4’’ pătrat
Diametrul maxim al camerei de procesare 202 mm
Dimensiuni (versiunea desktop) 274 x 250 x 451 mm
Greutate pentru transport 14 kg
Dimensiune pentru transport 600 x 380 x 360 mm

Cerinţe
Voltaj 100 – 120 VAC / 200 – 240 VAC 50/60 Hz (selectare automată)
Consum de energie Max. 500 W
Curent Max. 5A / 2,5A
Vacuum – 65 kPa (-19 inchHg), ≥ 80 lpm Tub OD 8mm
Gaz de curatare 20 – 50 kPa, 2-5 l / min, Tub OD 6 mm
Conexiune Scurgere 1 “M-NPT

Mai multe detalii : aici

Optiuni disponibile

* Set capace – Sunt confectionate din PET (Polietilena tereftalata). Grosime 0,5 mm, transparent, antistatic (10^8-10^10 Ω) pentru a preveni incarcarea statica in camera de procesare.
* Kit siringi – Format din mai multe siringi de injectie de 30 cc, ace si pistoane.
* Sistem central de injectie – Sistem disponibil pentru o singura siringa sau pentru trei siringi, cu difuzor N2 integrat .
* Unitate de injectie – Poate fi montata la suportul seringii și conectat la unul din cele 3 contacte uscate programabile.
* Pedala de comanda – Pentru controlul funcției de pornire / oprire și control vacuum.
* Dispozitiv de centrare
* Furtun gofrat pentru drenaj cu sistem de conectare – Material NPP, inclusiv conexiunea pentru conectarea la portul pentru drenaj.
* Pompa vid

Siteme de prindere

Varinate customizate de sisteme de prindere tip vacuum sau mecanice sunt disponibile pentru aproape orice aplicație. Sistemele de prindere sunt disponibile din următoarele materiale:

PP: NPP cu inel de etansare tip o-ring EPDM
FP: PTFE (TFM 1600 cu inel de etanșare FKM) alternativ pentru substraturi subțiri: PTFE poros
CE: ECTFE
SS: Oțel inoxidabil
AL: Aluminiu
Notă: la cerere, sunt disponibile și alte materiale, vă rugăm să ne contactați pentru detalii.

* Fragmente – Matrite, Substraturi, Fragmente
* Substraturi rotunde tip A– model vacuum pentru substraturi de la 2″ pana la 300 mm.
* Contact sumar
* Substraturi rotunde tip C – Sistem de prindere tip vacuum cu pini de centrare
* Substraturi cu forma patrata – Masti, celule fotovoltaice, etc.
* Substraturi Rotunde tip B – Prindere mecanica si pini de centrare
* Substraturi regulate – Substraturi regulate, sticla de laborator, etc.
* Substraturi subtiri, fragile – Adaptor cu suprafata perforata

Descarcare brosura.

 

Sus

 

SPIN200i ≤ Ø200MM

SPIN200i

Polos200

Ambele modele de spin coater, POLOS SPIN200i și POLOS Advanced 200, sunt potrivite pentru prelucrarea fragmentelor de Ø 200 mm / 8 inch (sau substraturi Ø 260 mm), sau substraturi patrate de 6 “x 6”.

Ambele modele de spin coater sunt disponibile în format Table top si format pentru integrare. Seria standard POLOS SPIN este echipata cu 3 porturi I / O, la care se conectează, de exemplu, o pedală pentru controlul unității de injectie.

Produsul POLOS Advanced poate fi complet personalizat în funcție de cerințele clienților, inclusiv capacul și liniile multiple de injectie a substantelor chimice. Seria Polos Advanced permite utilizatorului fie să injecteze manual, cu seringa, fie prin utilizarea colectorului opțional, cu supapă selectabila pentru injectia substanțelor chimice din vasul de distribuire (DV), apa DI sau N2.

SPIN200i este un dispozitiv de acoperire accesibil, cu un singur substrat. Acest sistem este potrivit pentru o gama larga de aplicații, inclusiv uscare, clatire, curatare si acoperire.

Modele disponibile:
Spin coater SPIN200i NPP Table Top / SPIN200i PTFE Table Top
– Acest spin coater de tip table-top este construit dintr-o carcasă din plastic, fara sudura, din polipropilena naturala (NPP) sau opțional PTFE. Include un suport de vacuum și un adaptor pentru fragmente.
SPIN200i-NPP Integrator / SPIN200i-PTFE Integrator
Integrare ușoara in sistemul dumneavoastra wetbench. Disponibil in doua variante: polipropilena (NPP) sau optional teflon (PTFE).

Specificatii:
Număr disponibil de programe nelimitat *
Pași per program nelimitat *
Viteza de rotatie * 1 – 12.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec **
Timp rotatie nelimitat *, ± 0,1 pași secunde
Ieșiri programabile libere 3 relee, capacitate nominală de comutare 0,5A / 125VAC – 0,3A / 60DC

Date despre sistem
Material carcasa Polipropilena naturala (NPP) ***
Material camera de procesare Polipropilena naturala (NPP) ***
Interfață Ecran tactil detașabil, de dimensiuni mari, utilizabil si cu manusi, rezistent la substanțe chimice, IP52,
Conexiune externă 1 Port USB în controler
Diametru substrat maxim 260mm rotund sau 6’’x 6’’ pătrat
Diametrul maxim al camerei de procesare 302 mm
Dimensiuni (versiunea desktop) 380 x 307 x 599 mm
Greutate pentru transport 20 kg
Dimensiune pentru transport 680 x 580 x 480 mm

Cerinţe
Voltaj 100 – 120 VAC / 200 – 240 VAC 50/60 Hz (selectare automată)
Consum de energie Max. 500 W
Curent Max. 5A / 2,5A
Vacuum – 65 kPa (-19 inchHg), ≥ 80 lpm Tub OD 8mm
Gaz de curatare 20 – 50 kPa, 2-5 l / min, Tub OD 6 mm
Conexiune Scurgere 1 “M-NPT

Mai multe detalii : aici

Optiuni disponibile

* Set capace – Sunt confectionate din PET (Polietilena tereftalata). Grosime 0,5 mm, transparent, antistatic (10^8-10^10 Ω) pentru a preveni incarcarea statica in camera de procesare.
* Kit siringi – Format din mai multe siringi de injectie de 30 cc, ace si pistoane.
* Sistem central de injectie – Sistem disponibil pentru o singura siringa sau pentru trei siringi, cu difuzor N2 integrat .
* Unitate de injectie – Poate fi montata la suportul seringii și conectat la unul din cele 3 contacte uscate programabile.
* Pedala de comanda – Pentru controlul funcției de pornire / oprire și control vacuum.
* Dispozitiv de centrare
* Furtun gofrat pentru drenaj cu sistem de conectare – Material NPP, inclusiv conexiunea pentru conectarea la portul pentru drenaj.
* Pompa vid

Siteme de prindere

Varinate customizate de sisteme de prindere tip vacuum sau mecanice sunt disponibile pentru aproape orice aplicație. Sistemele de prindere sunt disponibile din următoarele materiale:

PP: NPP cu inel de etansare tip o-ring EPDM
FP: PTFE (TFM 1600 cu inel de etanșare FKM) alternativ pentru substraturi subțiri: PTFE poros
CE: ECTFE
SS: Oțel inoxidabil
AL: Aluminiu
Notă: la cerere, sunt disponibile și alte materiale, vă rugăm să ne contactați pentru detalii.

* Fragmente – Matrite, Substraturi, Fragmente
* Substraturi rotunde tip A– model vacuum pentru substraturi de la 2″ pana la 300 mm.
* Contact sumar
* Substraturi rotunde tip C – Sistem de prindere tip vacuum cu pini de centrare
* Substraturi cu forma patrata – Masti, celule fotovoltaice, etc.
* Substraturi Rotunde tip B – Prindere mecanica si pini de centrare
* Substraturi regulate – Substraturi regulate, sticla de laborator, etc.
* Substraturi subtiri, fragile – Adaptor cu suprafata perforata

Descarcare brosura.

POLOS 200

Polos200

Modelele POLOS 200 pot injecta manual, sau opțional, semi-automatic, substantele chimice in camera de procesare. Sunt prevazute cu capac transparent, cu orificiu central. Carcasa este confectionata din plastic NPP (polipropilenă naturala), fara sudura. Se utilizeaza pentru fragmente si substraturi de pana la Ø200 mm (sau 8 “) sau 6” x 6 “.
Aplicatii: Acoperire, gravare, curatare, uscare, developare
Compatibil cu optiunei avansate, cum ar fi:
– clatirea suprafetei inferioare
– deschiderea automata a capacului
– pana la 16 intrări / iesiri digitale si 4 intrari / iesiri analogice
Include un suport de vacuum.

Modele disponibile:
POLOS200 Advanced-NPP Table-Top / POLOS200 Advanced-PTFE Table-Top
– Acest spin coater de tip table-top este construit dintr-o carcasă din plastic, fara sudura, din polipropilena naturala (NPP) sau opțional PTFE. Include un suport de vacuum și un adaptor pentru fragmente.
POLOS200 Advanced-NPP Integrator / POLOS200 Advanced-PTFE Integrator
Integrare ușoara in sistemul dumneavoastra wetbench. Disponibil in doua variante: polipropilena (NPP) sau optional teflon (PTFE).

Specificatii:
Număr disponibil de programe nelimitat *
Pași per program nelimitat *
Viteza de rotatie * 1 – 12.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec **
Timp rotatie nelimitat *, ± 0,1 pași secunde
Ieșiri programabile libere 3 relee, capacitate nominală de comutare 0,5A / 125VAC – 0,3A / 60DC

Date despre sistem
Material carcasa Polipropilena naturala (NPP) sau PTFE (TFM)
Material camera de procesare Polipropilena naturala (NPP) sau PTFE (TFM)
Interfață Ecran tactil detașabil, de dimensiuni mari, utilizabil si cu manusi, rezistent la substanțe chimice, IP52,
Conexiune externă 1 Port USB în controler
Diametru substrat maxim 260mm rotund sau 6’’x 6’’ pătrat
Diametrul maxim al camerei de procesare 302 mm
Dimensiuni (versiunea desktop) 380 x 307 x 599 mm
Greutate pentru transport 20 kg
Dimensiune pentru transport 680 x 580 x 480 mm

Cerinţe
Voltaj 100 – 120 VAC / 200 – 240 VAC 50/60 Hz (selectare automată)
Consum de energie Max. 1800 W
Curent Max. 10A / 8A
Vacuum – 80 kPa (-24 inchHg), ≥ 80 lpm Tube OD Ø8mm
Gaz de curatare 20 – 50 kPa, 2-5 l / min, Tub OD 6 mm
Conexiune Scurgere 1 “M-NPT

Mai multe detalii : aici

Optiuni disponibile

* EBR – Indepartarea surplusului de pe margine.
* Linii automate de injectie – Linie de injectie automata cu vas PTFE .
* MegPie – Sapphire MegPie este un traductor Megasonic pentru curatare si procesari sonochimice.
* BSR – Clatire pe partea inferioara.
* Placa cu bariera statica
* Jet de presiune inalta
* Furtun gofrat pentru drenaj cu sistem de conectare – Material NPP, inclusiv conexiunea pentru conectarea la portul pentru drenaj.
* Pompa vid
* Ac pe partea inferioare pentru EBR 100

Siteme de prindere

Varinate customizate de sisteme de prindere tip vacuum sau mecanice sunt disponibile pentru aproape orice aplicație. Sistemele de prindere sunt disponibile din următoarele materiale:

PP: NPP cu inel de etansare tip o-ring EPDM
FP: PTFE (TFM 1600 cu inel de etanșare FKM) alternativ pentru substraturi subțiri: PTFE poros
CE: ECTFE
SS: Oțel inoxidabil
AL: Aluminiu
Notă: la cerere, sunt disponibile și alte materiale, vă rugăm să ne contactați pentru detalii.

* Fragmente – Matrite, Substraturi, Fragmente
* Substraturi rotunde tip A– model vacuum pentru substraturi de la 2″ pana la 300 mm.
* Contact sumar
* Substraturi rotunde tip C – Sistem de prindere tip vacuum cu pini de centrare
* Substraturi cu forma patrata – Masti, celule fotovoltaice, etc.
* Substraturi Rotunde tip B – Prindere mecanica si pini de centrare
* Substraturi regulate – Substraturi regulate, sticla de laborator, etc.
* Substraturi subtiri, fragile – Adaptor cu suprafata perforata

Descarcare brosura.

 
Sus

Polos300 ≤ Ø300MM

POLOS Advanced 300

Polos300
Sistemul de tip spin coater POLOS Advanced 300 este destinat procesarii fragmentelor cu dimensiuni de pana la Ø300mm / 12″ (sau substraturi de Ø360 mm) sau substraturi patrate de 8 “x 8”. Unitatea este de asemenea disponibila ca modul pentru integrarea in alte sisteme.

Sistemele POLOS Advanced sunt sisteme de tip spin coater, foarte versatile, folosite pentru o gama larga de procese, inclusiv developarea sau gravarea. Unitatile sunt complet customizate pentru a raspunde cerintelor clientilor. In mod optional, sunt disponibile multiple seturi de capace si mai multe linii de injectie a substantelor chimice. Include un suport de vacuum.

APLICATII TIPICE PENTRU POLOS 300 SPIN COATER:
USCARE
CLINIRE / CURATARE
ACOPERIRE AUTOMATA

Specificatii:
Număr disponibil de programe nelimitat *
Pași per program nelimitat *
Viteza de rotatie * 1 – 12.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec **
Timp rotatie nelimitat *, ± 0,1 pași secunde
Ieșiri programabile libere 3 relee, capacitate nominală de comutare 0,5A / 125VAC – 0,3A / 60DC

Date despre sistem
Material carcasa Polipropilena naturala (NPP) sau PTFE (TFM) ***
Material camera de procesare Polipropilena naturala (NPP) sau PTFE (TFM)
Interfață Ecran tactil detașabil, de dimensiuni mari, utilizabil si cu manusi, rezistent la substanțe chimice, IP52,
Conexiune externă 1 Port USB în controler
Diametru substrat maxim 360 mm rotund sau 8’’x 8’’ patrat
Diametrul maxim al camerei de procesare 402 mm
Dimensiuni (versiunea desktop) 430 x 310 x 650 mm
Greutate pentru transport 32 kg
Dimensiune pentru transport 780 x 620 x 580 mm

Cerinţe
Voltaj 100 – 120 VAC / 200 – 240 VAC 50/60 Hz (selectare automată)
Consum de energie Max. 1800 W
Curent Max. 10A / 8A
Vacuum – 80 kPa (-24 inchHg), ≥ 80 lpm Tube OD Ø8mm
Gaz de curatare 20 – 50 kPa, 2-5 l / min, Tub OD 6 mm
Conexiune Scurgere 1 “M-NPT

Mai multe detalii : aici

Optiuni disponibile

* EBR – Indepartarea surplusului de pe margine.
* Linii automate de injectie – Linie de injectie automata cu vas PTFE .
* MegPie – Sapphire MegPie este un traductor Megasonic pentru curatare si procesari sonochimice.
* BSR – Clatire pe partea inferioara.
* Placa cu bariera statica
* Jet de presiune inalta
* Furtun gofrat pentru drenaj cu sistem de conectare – Material NPP, inclusiv conexiunea pentru conectarea la portul pentru drenaj.
* Pompa vid
* Ac pe partea inferioare pentru EBR 100

Siteme de prindere

Varinate customizate de sisteme de prindere tip vacuum sau mecanice sunt disponibile pentru aproape orice aplicație. Sistemele de prindere sunt disponibile din următoarele materiale:

PP: NPP cu inel de etansare tip o-ring EPDM
FP: PTFE (TFM 1600 cu inel de etanșare FKM) alternativ pentru substraturi subțiri: PTFE poros
CE: ECTFE
SS: Oțel inoxidabil
AL: Aluminiu
Notă: la cerere, sunt disponibile și alte materiale, vă rugăm să ne contactați pentru detalii.

* Fragmente – Matrite, Substraturi, Fragmente
* Substraturi rotunde tip A– model vacuum pentru substraturi de la 2″ pana la 300 mm.
* Contact sumar
* Substraturi rotunde tip C – Sistem de prindere tip vacuum cu pini de centrare
* Substraturi cu forma patrata – Masti, celule fotovoltaice, etc.
* Substraturi Rotunde tip B – Prindere mecanica si pini de centrare
* Substraturi regulate – Substraturi regulate, sticla de laborator, etc.
* Substraturi subtiri, fragile – Adaptor cu suprafata perforata

Descarcare brosura.

Sus

 

Polos450 ≤ Ø450MM

POLOS450

Polos300
Spin coater cu carcasa NPP (polipropilena naturala), cupa de centrifugare si injectie manuala a substantelor chimice. Dispune de un suport din otel inoxidabil, cu diametrul de 500 mm pentru substraturi de pana la max. Ø 500 rotunde si 350x350mm sub forma de substrat placa.

Specificatii:
Număr disponibil de programe nelimitat *
Pași per program nelimitat *
Viteza de rotatie * 1 – 1.500 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima ≤1500 rpm / s depinde de sarcina de incarcare **
Timp rotatie nelimitat *, ± 0,1 pași secunde
Ieșiri programabile libere 3 relee, capacitate nominală de comutare 0,5A / 125VAC – 0,3A / 60DC

Date despre sistem
Material carcasa Polipropilena naturala (NPP) sau PTFE (TFM) ***
Material camera de procesare Polipropilena naturala (NPP) sau PTFE (TFM)
Interfață Ecran tactil detașabil, de dimensiuni mari, utilizabil si cu manusi, rezistent la substanțe chimice, IP52,
Conexiune externă 1 Port USB în controler
Diametru substrat maxim 460 mm rotund sau 350x350mm patrat
Diametrul maxim al camerei de procesare 502 mm
Dimensiuni (versiunea desktop) 795 x 638 x 922 mm
Greutate pentru transport 75 kg
Dimensiune pentru transport 800 x 790 x 1180 mm

Cerinţe
Voltaj 100 – 120 VAC / 200 – 240 VAC 50/60 Hz (selectare automată)
Consum de energie Max. 1000 W
Curent Max. 10A
Vacuum – 80 kPa (-24 inchHg), ≥ 80 lpm Tube OD Ø8mm
Gaz de curatare 20 – 50 kPa, 2-5 l / min, Tub OD 6 mm
Conexiune Scurgere 1 “M-NPT

Mai multe detalii : aici

Optiuni disponibile

* EBR – Indepartarea surplusului de pe margine.
* Linii automate de injectie – Linie de injectie automata cu vas PTFE .
* MegPie – Sapphire MegPie este un traductor Megasonic pentru curatare si procesari sonochimice.
* BSR – Clatire pe partea inferioara.
* Placa cu bariera statica
* Jet de presiune inalta
* Furtun gofrat pentru drenaj cu sistem de conectare – Material NPP, inclusiv conexiunea pentru conectarea la portul pentru drenaj.
* Pompa vid
* Ac pe partea inferioare pentru EBR 100

Siteme de prindere

Varinate customizate de sisteme de prindere tip vacuum sau mecanice sunt disponibile pentru aproape orice aplicație. Sistemele de prindere sunt disponibile din următoarele materiale:

PP: NPP cu inel de etansare tip o-ring EPDM
FP: PTFE (TFM 1600 cu inel de etanșare FKM) alternativ pentru substraturi subțiri: PTFE poros
CE: ECTFE
SS: Oțel inoxidabil
AL: Aluminiu
Notă: la cerere, sunt disponibile și alte materiale, vă rugăm să ne contactați pentru detalii.

* Fragmente – Matrite, Substraturi, Fragmente
* Substraturi rotunde tip A– model vacuum pentru substraturi de la 2″ pana la 300 mm.
* Contact sumar
* Substraturi rotunde tip C – Sistem de prindere tip vacuum cu pini de centrare
* Substraturi cu forma patrata – Masti, celule fotovoltaice, etc.
* Substraturi Rotunde tip B – Prindere mecanica si pini de centrare
* Substraturi regulate – Substraturi regulate, sticla de laborator, etc.
* Substraturi subtiri, fragile – Adaptor cu suprafata perforata

Descarcare brosura.

Sus

 

Statii de procesare pentru curatare

Statie de procesare pentru curatare

Curatare
Statiea de procesare pentru curatare este o platforma versatila pe care o puteti folosi pentru o gama larga de procese. Sistemul este bazat pe dispozitivele de tip spin coater POLOS de o calitate superioara. Designul modular al sistemului ofera un excelent raport calitate-pret, o constructie completa din plastic, cu componente performante, compatibile cu orice mediu chimic si potrivit pentru cerintele dumneavoastra specifice.
Integrarea fara probleme a sistemului spin coater produs din NPP (polipropilena naturala) sau optional PTFE va permite sa lucrati cu tipuri variate de produse chimice. Pot fi integrate diverse module de spin coater si controlate din unitatea centrala pentru furnizarea de substante chimice si gaze.
Sunt disponibile configuratii standard pentru: curatarea substraturilor, precum si pentru foto-masti, depuneri straturi foto-rezistente, developare, gravare si procese lift-off.

Curatare cu presiune inalta si curatare megasonica
Sistem de tip spinning pentru curatare si uscare :
• Carcasa confectionata complet din polipropilena naturala (NPP)
• Brat mobil liniar pentru pulverizarea directa catre suprafata substratului, cu jeturi de mare presiune si cu jeturi megasonice.
• Epurator integrat de inalta presiune pâna la 200 de bari
• Vârfurile de pulverizare interschimbabile de inalta presiune, prezinta muchii de pulverizare concepute pentru a asigura o acoperire uniforma
• Echipat cu sistem megasonic de curatare, cu debit si putere ajustabile.
• Sistem de spalare cu apa calda deionizata cu sistem de incalzire de 3,5kW PFA, potrivit pentru fluide de inalta puritate.
• Partea superioara a substratului si partea inferioara se clateste cu ajutorul sistemului cu apa deionizata
• Sistem injectare CO2 integrat
• Azot injectat prin capac sau prin bratul mobil
• Pentru substraturi pâna la Ø 300 mm
• Camera de procesare inchisa, cu capac transparent pentru un control facil al procesului
• Algoritmi usor de configurat, programabili pas cu pas, cu urmatoarele setari:
• Activarea pompei de inalta presiune
• Activarea megasonica si nivelul intensitatii de iesire reglabile pe fiecare pas
• Clatire cu apa calda deionizata (Temperatura reglabila pentru fiecare reteta in parte)
• Timp 1-999 sec / pas
• Viteza 1-10.000 rpm
• Acceleratie / decelerare 1-30.000 rpm / sec

Specificatii:
Număr disponibil de programe 50
Pași per program 100
Viteza de rotatie * 1 – 10.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec
Acuratetea acceleratiei ± 0,1 rpm / sec
Acuratetea citirii vitezei de rotatie ± 0,1 rpm

Date despre sistem
Interfata Tastatura si afisaj LCD, rezistente la substante chimice, IP50
Model rezervor 2x rezervor de proces, material NPP, volum efectiv de 10 L
Accesorii pistol de pulverizare apa deionizata, pistol de pulverizare N2, tubulatura vid, indicatoare de lumina frontale
Diametrul camerei 402 mm
Dimensiune (versiune desktop) 1400 x 1600 x 950 mm
Sisteme de siguranta Senzor detectie scurgeri, senzor pentru evacuare, supapa alimentare cu sistem de inchidere

Elemente de siguranta:
Pentru a proteja utilizatorii, camera de proces este deschisa automat si suportul este ridicat – pentru o manevrare mai usoara si mai sigura a substratului. Acest lucru elimina orice posibil contact intre operator si eventualele suprafete contaminate chimic. Se pot programa atat secventele de clatire manuala, cat automata ale camerei, permitand ca toate suprafetele contaminate sa fie usor neutralizate – chiar si dupa o intrerupere a alimentarii electrice. Sistemul automat de alimentare cu substante chimice si sistemul de drenaj / evacuare / exaustare sunt integrate in sistem pentru a asigura o functionare sigura. Garniturile, blocurile de sigurante monitorizate, senzorii de alarma, monitorizarea vidului, protectia la suprasarcina a motoarelor si comutatorul de urgenta asigura cele mai inalte standarde de siguranta.

Mai multe detalii : aici

Sus

 

Statii de procesare pentru acoperire si developare

Statie de procesare pentru acoperire si developare

Curatare
Statiea de procesare POLOS este o platforma versatila pe care o puteti folosi pentru o gama larga de procese. Sistemul este bazat pe dispozitivele de tip spin coater POLOS de o calitate superioara. Designul modular al sistemului ofera un excelent raport calitate-pret, o constructie completa din plastic, cu componente high-end, compatibila cu orice mediu chimic si potrivit pentru cerintele dumneavoastra specifice.
Aplicatii: curatare substraturi / fotomasti, acoperiri fotorezistente, developare, gravare si procese lift-off.

Acoperire si developare
Sistem complet integrat cu camere duble de spin pentru un proces de acoperire si developare in conditii de siguranta si curatenie.

Solutie integrata intr-un singur sistem compact:
• Carcasa confectionata complet din polipropilena naturala (NPP) cu grosimea peretelui de 20mm
• Camera inchisa cu capac transparent pentru un control facil al procesului
• Pistoale de pulverizare cu azot si apa deionizata pentru a facilita curatarea camerei
• Senzor de siguranta pentru detectarea scurgerilor
• Sistem de monitorizare a prezentei gazelor

Sistem de acoperire echipat cu:

• Pompa pentru dozaj complet automata
• Brat de injectie mobil, sincronizat cu vitezea de rotatie pentru o uniformitate maxima pe suprafata intregului substrat
• Sistem ajustabil pentru indepartarea fina a marginilor
• Azot uscat, optional, disponibil prin capac sau brat mobil
• Motorul fara perii controlat digital cu control precis al vitezei si acceleratie selectabil pe etapa de reteta
• Azot injectat prin capac sau prin bratul mobil
• Motorul fara perii controlat digital cu control precis al vitezei si acceleratie selectabila pentru fiecare etapa a procesului

Sistem de developare echipat cu:

• Sistem de pulverizare complet automatizat, cu dubla linie de control
• Unitate HD potrivita pentru economisirea substantelor chimice pentru developare
• Substante injectate prin vasul de injectie
• Fetele substratului sunt clatite cu apa deionizata cu debit reglabil manual
• Sistem combinat pentru clatire si curatare in aceeasi camera de procesare
• Linie de scurgere selectabila cu rezervor integrat pentru colectarea deseurilor

Specificatii:
Număr disponibil de programe 999
Pași per program 100
Viteza de rotatie * 1 – 10.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec
Acuratetea acceleratiei ± 0,1 rpm / sec
Acuratetea citirii vitezei de rotatie ± 0,1 rpm

Date despre sistem
Interfata Tastatura si afisaj LCD, rezistente la substante chimice, IP50
Model rezervor 2x rezervor de proces, material NPP, volum efectiv de 10 L
Accesorii pistol de pulverizare apa deionizata, pistol de pulverizare N2, tubulatura vid, indicatoare de lumina frontale
Diametrul camerei 402 mm
Dimensiune (versiune desktop) 1400 x 1600 x 950 mm
Sisteme de siguranta Senzor detectie scurgeri, senzor pentru evacuare, supapa alimentare cu sistem de inchidere

Elemente de siguranta:
Pentru a proteja utilizatorii, camera de proces este deschisa automat si suportul este ridicat – pentru o manevrare mai usoara si mai sigura a substratului. Acest lucru elimina orice posibil contact intre operator si eventualele suprafete contaminate chimic. Se pot programa atat secventele de clatire manuala, cat automata ale camerei, permitand ca toate suprafetele contaminate sa fie usor neutralizate – chiar si dupa o intrerupere a alimentarii electrice. Sistemul automat de alimentare cu substante chimice si sistemul de drenaj / evacuare / exaustare sunt integrate in sistem pentru a asigura o functionare sigura. Garniturile, blocurile de sigurante monitorizate, senzorii de alarma, monitorizarea vidului, protectia la suprasarcina a motoarelor si comutatorul de urgenta asigura cele mai inalte standarde de siguranta.

Mai multe detalii : aici

Sus

 

Statii de procesare pentru gravare

Statie de procesare pentru gravare

Curatare
Statiea de procesare POLOS este o platforma versatila pe care o puteti folosi pentru o gama larga de procese. Sistemul este bazat pe dispozitivele de tip spin coater POLOS de o calitate superioara. Designul modular al sistemului ofera un excelent raport calitate-pret, o constructie completa din plastic, cu componente high-end, compatibila cu orice mediu chimic si potrivit pentru cerintele dumneavoastra specifice.

Aplicatii: curatare substraturi / fotomasti, acoperiri fotorezistente, developare, gravare si procese lift-off.

Sistem automat de gravare: – Sistem pentru gravarea centrifugala cu debit si raport de amestec controlat

• Brat pentru injectie cu mai multe linii de injectie si pulverizare
• Unitate HD potrivita pentru economisirea substantelor chimice
• Debit si raport de amestec programabil, foarte precis
• Potrivit pentru injectia statica sau dinamica pe suprafata substratului
• Sistem injectie azot prin capac sau prin bratul mobil, disponibil optional
• Fetele substratului sunt clatite cu apa deionizata
• Ciclul obligatoriu de siguranta pentru neutralizarea camerei la pornirea unitatii
• Camera de procesare submersibila pentru prelucrarea in siguranta a substantelor chimice periculoase
• Echipat cu rezervoare de procesare de 10 litri din PTFE pentru depozitarea si pregatirea chimica
• Disponibil cu sistem de umplere automat sau manual
• Disponibil in mod optional cu sistem de incalzire de 3,5kW pentru rezervorul de procesare.
• Incinta sistemului confectionata din polipropilena naturala (NPP)
• Folosit pentru substraturi de pana la Ø 200 mm

Specificatii:
Număr disponibil de programe 999
Pași per program 100
Viteza de rotatie * 1 – 10.000 rpm ** ± 1 rpm
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Direcția de rotație în sensul acelor de ceasornic, în sens invers acelor de ceasornic, alternativ
Accelerație maxima 30.000 rpm / sec
Acuratetea acceleratiei ± 0,1 rpm / sec
Acuratetea citirii vitezei de rotatie ± 0,1 rpm

Date despre sistem
Interfata Tastatura si afisaj LCD, rezistente la substante chimice, IP50
Model rezervor 2x rezervor de proces, material NPP, volum efectiv de 10 L
Accesorii pistol de pulverizare apa deionizata, pistol de pulverizare N2, tubulatura vid, indicatoare de lumina frontale
Diametrul camerei 302 mm
Dimensiune (versiune desktop) 1400 x 1600 x 950 mm
Sisteme de siguranta Senzor detectie scurgeri, senzor pentru evacuare, supapa alimentare cu sistem de inchidere

Mai multe detalii : aici

Sus

 

Placi de incalzire POLOS

Statie de procesare pentru gravare

Polos
Modele disponibile : Polos 150S si Polos 200S

Specificatii:
Interval de temperatura 50 – 230 °C
Sistem stocare 10 programe (Temperatura / Timp)
Timer de numarare 1-999 secunde, cu alarma acustica
Precizia vitezei de rotație ± 0,1 rpm **
Uniformitate temperatura ± 0,5 °C
Suprafata placii inclazite 180 x 180 mm sau 230 x 230 mm
Potrivit pentru subtraturi de pana la 150 mm sau 200 mm
Putere max. 550 W sau 1,200 W
Material placii de incalzire Aluminiu (anodizat)
Materialul carcasei otel inoxidabil
Dimensiuni 450x320x200mm

Mai multe detalii : aici

Sus